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      光譜橢偏儀

      簡介:

      SE-L光譜橢偏儀

      概述

      SE-L 是一款全自動高精度光譜橢偏儀,集眾多科技專利技術,采用行業前沿創新技術,配置全自動測量模塊。通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量,快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析。

      。高精度自動測量光學橢偏測量解決方案
      。全自動變角、調焦等控制平臺,一鍵快速測量
      。軟件交互式界面配合輔助向導式設計,易上手、操作便捷
      。豐富的數據庫和幾何結構模型庫,保證強大數據分析能力

      產品特點

      采用氘燈和鹵素燈復合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm);

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      高精度旋轉補償器調制、PCRSA配置,實現Psi/Delta光譜數據高速采集;

      微信截圖_20180923101418.png

      全自動橢偏測量技術,基于行業領先電機控制技術,全自動調整測量角度,高精度控制樣件臺,實現樣件快速自動對準找焦;
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      頤光專利技術確保在寬光譜范圍內,提供優質穩定的各波段光譜;
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      數百種材料數據庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料;

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      產品應用

      半導體薄膜結構:介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜,激光二極管GaNAlGaN、透明的電子器件等;

      平板顯示:TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等;
      光伏太陽能:光伏材料(如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等)反射率,消光系數測量,膜層厚度及表面粗糙度測量等;
      功能性涂料:增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學涂層,以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等;
      生物和化學工程:有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等;
      塊狀材料分析:固體(金屬、半導體、介質等)或液體(純凈物或混合物)的折射率n和消光系數k表征,玻璃新品研發和質量控制等。

      建議配件

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      Mapping.png

      ME-L0.png

      ME-L.png

      溫控臺

      Mapping擴展模塊

      真空泵

      透射吸附組件

       

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